日本技術人員轉投海外企業、技術流失的問題日益嚴重。韓國三星集團成為了日本技術人員最大的轉職去處。在三星集團飛躍的背后，日本技術人員培育的高超技術在做支撐。

松下、NEC、東芝、日立制作所。這些公司都是技術人員轉職到韓國三星集團的“大戶”。積極聘用日本技術人員的三星，把日本公司培育的技術經驗最大限度轉化成了自己的優勢。

乘著“安倍經濟學”的東風，日本制造業整體上處于略微恢復態勢。但從各家企業的具體情況來看，多數企業如今還很難說已經脫離了困境。

2010年，GDP（國內生產總值）滑落到世界第3位；2011年，世界專利申請件數跌至第3位——近年來，日本在全世界的地位明顯下滑。從新興市場國家的飛速發展，以及日本人口減少的預測來看，要想打破衰退的局面，可以說是非常困難的。

競爭力源泉的人“財”不斷流失

但有一點可以確定。要想獲得強大的競爭力，就必須更加認真地培養、網羅優秀的人“財”。正如武田信玄的名言“人是城、人是墻”，對于公司而言，最重要的是人“財”。

但最近幾年日本出現了一個非常嚴重的問題——日本技術人員不斷向海外流失。原本隸屬于日本企業的技術人員因為重組或是獵頭，大多轉投韓國、臺灣、中國大陸等海外企業，帶走了之前在日本公司累積的大量技術經驗。但至于流失的程度有多嚴重，卻鮮有調查數據。

此次，筆者就把目光對準長期籠罩著一層面紗的日本技術人員流失問題。通過專利信息，對實際情況進行分析。

分析對象僅限日本的專利信息（向日本專利廳提交的信息），這是因為調查針對的是日本技術人員。估計人“財”流失的實際規模要大于本次分析的結果。

除了近1年半以來申請的專利，專利信息原則上全部公開，本文就以這些公開信息為分析對象。

數據利用專利搜索服務“SRPARTNER”（日立系統制作）抽取（截至2013年5月1日），分析作業使用了“INNOVATION NAVI”（COSMOTEC Patent Information Systems制作）等軟件。

專利申請：日本減、海外增
 下圖匯總了日本專利廳專利申請件數的變化情況。專利申請總件數以前維持在1年約40萬件的水平。后來，為了減輕專利廳的負擔、加快審查速度，若干相關法律做了修改，受此影響，再加上重視質量，專利數量呈緩慢減少的趨勢。


受到2008年雷曼危機的影響，從2009年開始，申請件數大幅減少。這是眾多日本企業受到經濟倒退的打擊，紛紛減少申請件數的結果。與此幾乎同時，眾多企業開始裁員。

反觀向日本申請專利的海外企業，中國大陸的增長尤為顯著，臺灣基本持平，韓國也從2010年開始回暖。由此可以猜測，當日本技術人員在裁員中丟掉飯碗的時候，海外企業成了他們的歸宿。而且，海外企業求賢若渴，在他們看來，即使不在裁員之列，技術好、待遇差的日本技術人員也稱得上是上佳的獵頭人選。

下表匯總了韓國、臺灣、中國大陸代表性企業的申請件數與發明人數。韓國企業因為申請件數多，所以統計的時間段縮短到了2008年以后。



三地中，以韓國三星電子為代表的三星集團在申請件數上一枝獨秀。把亞軍LG遠遠拋在了后面。在發明人數中，日本人占到了225人之多。

臺灣企業中，鴻海精密工業的申請件數最多。值得關注的是，日本人發明的專利占到了7.2％，比例也非常高。

與二者相比，中國大陸企業的發明人之中幾乎沒有日本人。世界知識產權組織（WIPO）表示，2012年，在各企業根據《專利合作條約》（PCT）提交的國際申請中，中興通訊（ZTE）排名第一，華為技術名列第四，中國企業自身實力的飛躍顯而易見。

2012年的申請目前尚未公開，因此在本數據中沒有體現。另外，2012年以前提交的申請雖然進入了公開期，但本數據中不包含未轉移到日本的申請（這種情況適用于所有申請，并非針對中國企業）。鑒于以上情況，對于新興的中國企業，目前還看不到明顯的趨勢。但今后，中國企業的申請件數無疑將會增加，與此同時，日本技術人員的動向也將受到關注。

根據以上推斷，從目前的數據來看，三星可以認為是日本技術人員最大的接收企業。下面，筆者將把焦點鎖定三星來進行分析。

極為重要的橫濱研究所
 三星在世界各地設有從事R&D（研發）的研究所。三星主頁上介紹了14家主要研究所，其中，橫濱研究所設在日本。該研究所以株式會社的形式獨立經營，自從1992年成立以來，一直在通過自主或與總部合作的方式，積極開展研究、專利申請與注冊業務。

從橫濱研究所官網的介紹來看，該研究所共有員工551人（截至2012年12月）。迄今為止，共在日本申請專利288件，參與專利開發的日本技術人員有182人。

而在整個三星集團，包括橫濱研究所在內，2002年以后，參與申請日本專利的日本技術人員為485人。橫濱研究所的影響力之高可見一斑。

近年來，橫濱研究所的重要性更是與日俱增。在2009年之前，該研究所1年新聘的日本技術人員均不足20人。但進入2010年后，這一數字增加到了52人。

從轉職到申請專利需要的時間或許因人而異，但是，如果按照1～2年計算，我們可以認為，在2008～09年期間，出現了大量的轉職人員。由此可以推測，三星戰略性地聘用了日本企業在雷曼危機之后裁減的人員。

松下是最大的人“財”來源

包括橫濱研究所在內，轉職到三星集團的日本技術人員主要來自哪些企業呢？為此，我們追蹤了參與三星日本專利申請的485名日本技術人員，在下面表格中，統計了他們原來任職的公司。結果，日本著名的電子廠商悉數上榜。



其中，來自松下的人數最多。松下收購的三洋電機排在第五名。之后是第二名的NEC，第三名的東芝和日立制作所。

 在這些公司中，技術人員分別參與的是哪些領域的專利申請呢？為了對此進行調查，下圖通過FI號（專利廳授予的技術分類代碼），按照技術人員原來所在的企業，匯總了技術領域。由此可以得出以下結論。



①在圖像處理及通信技術（FI號H04N，下同）領域，原三洋電機與富士通的員工最多；②在光盤相關技術（G11B）領域，原松下與東芝的員工最多；③在有機EL（電致發光）相關技術（H05B）領域，原NEC的員工獨占鰲頭；④在電池相關技術（H01M）領域，原松下與日立的員工最多；⑤在半導體裝置相關技術（H01L）領域，原瑞薩電子的員工最多。

顯而易見，轉職者把老東家代表性技術領域的經驗運用到了三星的專利申請之中。

上面5個技術領域是按照申請件數多少的順序排列的。而申請后成功注冊的專利中，件數最多的是有機EL相關技術（下圖）。234件申請中，有137件注冊，注冊率超過58％。電池相關技術的注冊率也超過了50％。



圖像處理及通信技術的申請件數雖然最多，為293件，而注冊件數只有96件，注冊率僅為約30％。

除此之外，按照普遍觀點，被其他公司專利引用的次數（審查官引用）與專利價值的多寡具有相關關系，通過對該數據進行分析，筆者發現，與其他技術相比，日本技術人員參與的有機EL相關技術的申請被引用的次數接近前者的3倍。顯示出了日本技術人員在該領域的技術優勢。

傳聞三星擁有中小型有機EL面板9成的份額。在這個份額的背后，日本技術人員無疑做出了卓越的貢獻。

今后致力于發展電池技術
接著，筆者分析了三星的日本技術人員近年來鉆研的技術主題。下圖按照技術領域，分類匯總了三星的日本技術人員參與的申請的變遷。由圖可知，此前，圖像處理及通信技術的總數最多；而近年來，電池相關技術開始增加。


由于最近1年半的專利信息原則上保密。2011年、2012年之所以也有數據，是因為申請了加快審查速度，公開時間比通常要快。由此可以推測，在三星來看，這些發明非常重要，可以說，同期的申請件數與該公司專注的程度之間存在極高的相關關系。

而在申請件數有所增加的電池相關技術中，對該技術進一步細分可以發現，關于活性物質的申請的增幅尤為顯著。

該領域主要與鋰離子電池內的活性物質、尤其是表面覆膜的活性物質有關。在該領域，各公司從1990年代后期開始全面進行開發，總申請件數現在仍在持續增加，是整個行業研究的熱點。

2009年之前，該領域申請數量最多的是包括三洋電機在內的松下集團。然而，到了2010年以后，豐田登上首位，松下集團退居第二，三星躍升到了第三名。從申請內容分析，豐田主要是當紅的車載用途等大型電池。三星則是以智能手機、平板電腦等使用的小型電池為主，著眼點各不相同。

2012年，三星小型鋰離子電池的供貨份額超過了松下，登上了全球第一的寶座。該領域及其他領域申請專利的技術估計有助于擴大份額。

對于活性物質的相關申請，為了詳細分析各公司的技術特點，我們使用了F項分類（由日本專利廳授予、與FI號分類方式不同的技術分類代碼）。下圖選取2010年后在該領域申請數量靠前的5家公司，對其情況進行了分析。各公司開發的重點，主要圍繞改善充電循環壽命和提高容量效率。三星也是如此。



在該領域三星提出的申請中，日本技術人員參與了一半以上。在與對手競爭激烈的最尖端的領域，三星的日本技術人員可以說表現出了極高的貢獻度。

三星也有技術人員轉職
 日本技術人員流失的背景在于原公司業績惡化、無法養活技術人員。要想克服這個問題，就必須調整研發戰略、事業戰略、知識產權戰略，但是，倘若把目光投向每一名技術人員，為追求更好的環境而轉職的在日本國內早已有之，就個人發展而言，可以說是理所當然。

但有一點需要注意。對于日本技術人員，轉職的下家是不是穩定的歸宿？這對于國內轉職也同樣適用，因為“插班生”往往會受到苛刻的對待。倘若得不到信賴，技術人員身上的技術一旦過時，也就淪為了“廢品”。在這一點上，海外企業的做法更加冷酷。

在此次分析的485名三星的日本技術人員中，133人已經在日后變為其他企業的發明人?；旧弦呀涬x開了三星。比例高達27.4％。而厚生勞動省的2011年雇用動向調查顯示，制造業的平均離職率為9.7％，可見三星的日本技術人員再次轉職的離職率是很高的。

如果把在三星的第一次申請與最后一次申請之間的時間段視為任職期間，上述133人的平均任職期間約為2年零6個月。實際任職期間估計還要再久一點，但也屬于短的了。

當然，短期內再次轉職并不一定都是壞事。但對于希望長期工作的技術人員而言，這個數據可以說很不樂觀。

那么，已經離開三星的，究竟是哪些領域的技術人員呢？從這些人員在新公司申請專利的技術領域來看，半導體裝置相關技術最多。三星在該領域的申請數量于2006年達到頂峰，之后不斷減少，由此可以預測，三星對該領域做出了戰略整理。

另外，在三星近年來大力發展的電池相關技術領域，也有近20人退職。人才流動的速度之快可見一斑。

根據以上分析，日本技術人員流失現狀浮出了水面。實際上，如果調查一下接收企業在各國當地的申請，或許還會發現更多參與申請的日本人，在近1年半的保密期內，或許出現了更嚴峻的事態。人“財”的流失已經侵襲到了日本企業的每一個部門。

人“財”的國際交流有利于世界技術革新。但單方向的流失是造成國力低下、企業競爭力低下的直接原因。要想阻止這樣的潮流絕非易事。日本企業的管理層必須從根本上調整思路的時刻已經近在眼前。（特約撰稿人：武藤謙次郎）